Konspekt informacyjny

Panel ekspertów

IF PAN » NANOBIOM » Panel ekspertów » Panel ekspertów 2009 » Program » 3 grudnia

 
 
Panel Ekspertów

Projekt Kluczowy:
Kwantowe Nanostruktury Półprzewodnikowe
do Zastosowań w Biologii i Medycynie - Rozwój i Komercjalizacja
Nowej Generacji Urządzeń Diagnostyki Molekularnej Opartych
o Nowe Polskie Przyrządy Półprzewodnikowe


2 - 3 grudnia 2009

Instytut Fizyki PAN
al. Lotników 32/46
02-668 Warszawa
Audytorium im. L. Sosnowskiego



PROGRAM


2 grudnia

3 grudnia

  • 9:00 - 9:20   prof. Czesław Skierbiszewski   (Instytut Wysokich Ciśnień PAN))
                          Mechanizmy wzrostu AlGaInN w metodzie MBE i ich wpływ a własności
                          przyrządów optoelektronicznych i elektronicznych

    9:20 - 9:30   Dyskusja i pytania ekspertów

  • 9:30 - 9:50      prof. Michał Leszczyński    (Instytut Wysokich Ciśnień PAN))
                             Mechanizmy wzrostu i domieszkowania warstw AlGaInN w metodzie
                             MOVPE i ich wpływ na własności przyrządów optoelektronicznych

    9:50 - 10:00   Dyskusja i pytania ekspertów

  • 10:00 - 10:20   prof. Regina Paszkiewicz
                               (Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki, Politechnika Wrocławska)
                               Wzrost i charakteryzacja struktur epitaksjalnych GaN/AlGaN z 2DEG
                               metodą MOVPE oraz opracowanie technologii konstrukcji testowych
                               struktur przyrządowych tranzystorów HFET z chemiczną bramką

    10:20 - 10:30   Dyskusja i pytania ekspertów


  • 10:30 - 11:00
             
    PRZERWA NA KAWĘ


  • 11:00 - 11:20   prof. Jan Misiewicz i dr Robert Kudrawiec
                               (Instytut Fizyki, Politechnika Wrocławska)
                               Charakteryzacja struktur na bazie GaN  i  ZnO metodami Optycznej
                               spektroskopii elektromodulacyjnej oraz spektroskopii rozdzielonej
                               w czasie

    11:20 - 11:30   Dyskusja i pytania ekspertów


  • 11:30 - 11:50   dr Marek Guziewicz(Instytut Technologii Elektronowej)
                               Opracowanie metalizacji struktur półprzewodnikowych na bazie GaN
                               i ZnO przeznaczonych do wymagających warunków eksploatacyjnych.
                               Opracowanie technologii warstw dielektrycznych dla heterozłączowych
                               tranzystorów typu ISFET i MISFET na bazie GaN i ZnO.

    11:50 - 12:00   Dyskusja i pytania ekspertów


  • 12:00 - 12:30
             
    DYSKUSJA


  • 12:30 - 13:00
             
    OBIAD