Konspekt informacyjny

Panel ekspertów

IF PAN » NANOBIOM » Panel ekspertów » Panel ekspertów 2010 » Program » 1 grudnia

 
 
Panel Ekspertów

Projekt Kluczowy:
Kwantowe Nanostruktury Półprzewodnikowe
do Zastosowań w Biologii i Medycynie - Rozwój i Komercjalizacja
Nowej Generacji Urządzeń Diagnostyki Molekularnej Opartych
o Nowe Polskie Przyrządy Półprzewodnikowe


30 listopada - 1 grudnia 2010

Instytut Fizyki PAN
al. Lotników 32/46
02-668 Warszawa
Audytorium im. L. Sosnowskiego



PROGRAM


30 listopada

1 grudnia

  • 9:00 - 9:20   prof. Michał Leszczyński   (Instytut Wysokich Ciśnień PAN)
                          Rola półprzewodników azotkowych w konstrukcjach sensorów optycznych
                          i elektronicznych - zastosowania.
     (Zadania 7 - 15)
    9:20 - 9:30   Dyskusja i pytania ekspertów

  • 9:30 - 9:50   doc. Izabella Grzegory   (Instytut Wysokich Ciśnień PAN)
                          Krystalizacja objętościowa GaN metodą High Nitrogen Pressure Solution
                          (HNPS) na zarodziach GaN o dużych rozmiarach z metody HVPE i HNPS.                      
    (Zadania 7)
                          Krystalizacja objętościowa GaN metodą HVPE w celu uzyskania zarodzi
                          GaN o dużych rozmiarach i o różnych orientacjach krystalograficznych.                      
    (Zadania 8)
    9:50 - 10:00   Dyskusja i pytania ekspertów

  • 10:00 - 10:20   prof. Tadeusz Suski   (Instytut Wysokich Ciśnień PAN)
                               Mechanizmy wzrostu i domieszkowania warstw AlGaInN w metodzie
                               MOVPE i ich wpływ na własności przyrządów optoelektronicznych.
                              
    (Zadania 10)
                               Zbadanie mechanizmów generacji światła w azotkowych strukturach
                               kwantowych.
     (Zadania 11)
    10:20 - 10:30   Dyskusja i pytania ekspertów


  • 10:30 - 11:00
             
    PRZERWA NA KAWĘ


  • 11:00 - 11:20   prof. Piotr Perlin   (Instytut Wysokich Ciśnień PAN)
                               Nanostruktury azotkowe dla potrzeb sensorów optycznych
                              
    (Zadania 13)
                               Opracowanie nowych koncepcji emiterów azotkowych (380 - 520 nm)
                               w celu ich wykorzystania w sensorach chemicznych, biologicznych                            i medycznych.
     (Zadania 14)
    11:20 - 11:30   Dyskusja i pytania ekspertów


  • 11:30 - 11:50   prof. Czesław Skierbiszewski(Instytut Wysokich Ciśnień PAN)
                               Azotkowe struktury wytwarzane metodą Plasma Assisted Molecular Beam
                               Epitaxy. Diody laserowe na zakres 450 nm oraz struktury GaN/AlGaN
                               z dwuwymiarowym gazem elektronów do wykorzystania w sensorach
                               biologicznych i chemicznych.
     (Zadania 15)
    11:50 - 12:00   Dyskusja i pytania ekspertów


  • 12:00 - 12:20   prof. Stanisław Krukowski(Instytut Wysokich Ciśnień PAN)
                               Zastosowanie modelowania wielo-skalowego do optymalizacji
                               echnologii laserów emitujących w zakresie 380-500 nm,
                               partych na bazie azotków metali grupy III.
     (Zadania 9)
    12:20 - 12:30   Dyskusja i pytania ekspertów


  • 12:30 - 13:30
             
    OBIAD


  • 13:30 - 13:50   mgr Jakub Sołtys(ICM, Uniwersytet Warszawski)
                               Studium zbieżności dla powierzchni GaN i ZnO modelowanie
                               oddziaływań molekuł biologicznych z powierzchniami GAN i ZnO
                              
    (Zadania 27)
    13:50 - 14:00   Dyskusja i pytania ekspertów


  • 14:00 - 14:20   mgr Iwona Pasternak(Instytut Technologii Elektronowej)
                               Opracowanie metalizacji struktur półprzewodnikowych na bazie GaN
                               i ZnO przeznaczonych do wymagających warunków eksploatacyjnych.
                              
    (Zadania 23)
                               Opracowanie technologii warstw dielektrycznych dla heterozłączowych
                               tranzystorów typu ISFET i MISFET na bazie GaN i ZnO.
                              
    (Zadania 24)
    14:20 - 14:30   Dyskusja i pytania ekspertów


  • 14:30 - 15:30
             
    DYSKUSJA